Технологический прорыв в микроэлектронике
Резидент особой экономической зоны «Технополис Москва» создал первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров. Уникальное оборудование разработано при участии белорусских специалистов, что подчеркивает успешное международное сотрудничество. Как сообщил мэр Сергей Собянин, это достижение станет основой для технологической независимости страны в сфере микроэлектроники.
Инновации и перспективы развития
Новая установка использует твердотельный лазер вместо традиционной ртутной лампы, что повышает энергоэффективность и долговечность устройства. Уже ведутся работы по адаптации оборудования под запросы первого заказчика. Параллельно в «Алабушеве» реализуются масштабные проекты в фармацевтической отрасли, укрепляя статус региона как центра высоких технологий.
Сергей Собянин также отметил, что к 2026 году планируется завершить разработку фотолитографа с разрешением 130 нанометров. Этот шаг откроет новые возможности для отечественной электроники, сокращая зависимость от импортных аналогов.
Источник: vm.ru
